| 분산되어 있던 연구개발 인력 통합해 시너지 극대화
| 채용 확대에 따른 인력 증가 대비
| 2017년 10월 착공해 2019년 9월 완공 예정
(사진 설명) 이천 연구개발센터 조감도
SK하이닉스가 반도체 기술역량 극대화를 위해 2000여억원 이상을 투자해 연구개발센터를 건설한다고 28일(木) 밝혔다.
10월 착공에 들어가는 이 연구개발센터는 지상 15층, 지하 5층에 연면적 약 9만㎡ 규모로 이천캠퍼스 M14 공장 옆 부지에 조성되어 4천여명 이상의 인력을 수용하게 된다.
2019년 9월 연구개발센터가 완공되면, 지금까지 이천캠퍼스 내 여러 건물에 분산되어 있던 미래기술연구원과 낸드 개발사업부문의 인력들이 한 공간에 모이게 된다. 특히 D램개발사업부문 등이 입주해 있는 SUPEX Center와 R3 건물에도 인접하여 통합 연구개발 허브를 이룰 예정이다. SK하이닉스는 이를 통해 소통과 협업을 강화하여 시너지를 극대화하고, 보다 효율적인 연구개발이 가능해질 것으로 기대하고 있다.
또한 SK하이닉스는 세계 최고 수준의 반도체 기술역량을 더욱 강화하기 위해 올 한 해 동안 천 명 이상의 채용을 예정하고 있다. 향후 연구개발 인력도 지속 확대할 계획이며, 이에 대비하여 추가적인 근무 공간 확보의 필요성이 대두하고 있다. 특히 반도체 기술의 개발 난이도 증가로 연구개발 역량의 중요성이 갈수록 커지고 있는 만큼, 통합 연구개발센터를 차세대 핵심 연구거점으로 삼아 미래에 대비한다는 방침이다.
한편, SK하이닉스는 메모리반도체 산업에서의 경쟁력을 강화하기 위해 연구개발 투자를 지속 강화하고 있다. 2012년 SK그룹 편입 후, 8천여억원이던 연구개발비 투자액이 꾸준히 증가하여 지난해에는 그 두 배가 훌쩍 넘는 2조 1천여억원을 집행했다. 이는 16년 매출액 대비 12.2%에 달하는 규모로, 사상 처음으로 연구개발비가 2조원을 넘겼다. 올해 상반기에도 이미 1.1조원 이상의 연구개발비를 집행하여 다시 한 번 사상 최대 규모의 연구개발비 투자가 이루어질 전망이다. <끝>
