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듀폰사와 반도체 사업 협력

Written by SK하이닉스 | 1998. 3. 12 오전 12:00:00

 

- 포토마스크 생산, 개발에 관한 전략적 제휴

 

현대전자(대표: 정몽헌)는 미국의 듀폰 포토마스크사(DuPont Photomasks Inc.이하 듀폰사)와 차세대 포토마스크 기술을 공동 개발하고 듀폰사가 포토마스크를 생산, 현대전자에 공급하는 내용의 전략적 제휴를 체결했다고 12일 발표했다.

 

양사의 전략적 관계는 최근 급격히 발전하고 있는 반도체의 고집적화에 따라, 전문 업체가 최첨단 포토마스크 기술을 개발하는 것이 효율적이라는 판단에 따른 것으로, 듀폰사의 포토마스크 제작 기술과 현대전자의 웨이퍼 프로세서 기술을 접목시킴으로써 보다 신뢰성 있는 기술의 개발 및 개발 기간의 단축을 가능케 하며, 포토 마스크 생산 전문회사가 생산을 전담토록 함으로써 원활한 생산 및 공급 체계를 구축하게 하는 계기를 마련해 주는 것으로 평가되고 있다. 듀폰사는 이와 같은 전략적 제휴 관계를 공고히 하기 위하여 현대전자가 필요로 하는 최신의 핵심 포토마스크 기술을 현대전자와 공동개발하고, 이를 위하여 경기도 이천에 이미 운영하고 있는 포토마스크 공장에 연구소를 설립할 예정인 것으로 알려지고 있다.

 

현대전자는 이러한 전략적 제휴관계를 통하여 듀폰사로부터 보다 우수한 기술 및 생산 서비스를 받을 수 있을 것으로 기대하고 있으며, 향후 300mm 웨이퍼용 마스크에 대한 대규모 투자 부담을 줄이고 기존의 반도체 사업에 역량을 집중할 수 있을것으로 예상하고 있다. 또한 듀폰사의 입장에서는 가시적으로는 사업을 대폭 확장하면서 이를 계기로 포토마스크 업계에서 선두 위치를 확고히 할 수 있을 것으로 예상되고 있다. 이번 양사의 제휴는 상호간 단순 생산 지원 차원을 넘어 관련분야의 핵심 기술 개발에까지 역점을 둠으로써, 양사 공히 향후 세계 반도체 시장을 선도할 수 있는 발판을 마련한 것으로 평가된다.

 

한편, 현대전자의 마스크샵은 반도체 개발 및 생산시 필수적인 포토마스크의 기술 개발 및 생산을 위하여 1997년 사업을 시작, 97년말 0.28마이크론 급 제품의 품질 인증 완료로 차세대 제품 개발에 필요한 첨단 기술을 확보하여, 동사의 64M D램 생산, 256M D램 개발 등을 포함한 메모리 및 비메모리 반도체용 포토마스크 공급에 큰 기여를 하고 있다.

 

1998년 3월 12일(木)
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